本公开提供了一种用于控制光刻设备中的紫外辐射的紫外辐射控制系统和相关方法。所述紫外辐射控制系统包括：壳体；转换晶体(540)，所述转换晶体被设置在所述壳体上或所述壳体中，所述转换晶体被配置成将紫外辐射转换为荧光辐射；多个光电探测器(550)，所述多个光电探测器被配置成检测所述荧光辐射的散射部分的强度；以及至少一个扩散表面(545)，所述至少一个扩散表面被设置在所述转换晶体上或所述转换晶体中，所述至少一个扩散表面被配置成增加所述荧光辐射的散射部分的强度。