发明授权
- 专利标题： 一种连环纳米锥周期性阵列制备方法
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申请号： CN202111671267.X申请日： 2021-12-31
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公开(公告)号： CN114315416B公开(公告)日： 2022-10-21
- 发明人: 赵晓宇 , 安彤舸 , 温嘉红 , 张鉴 , 郭筱洁 , 王雅新 , 钟家松 , 张永军
- 申请人： 杭州电子科技大学
- 申请人地址： 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街
- 专利权人： 杭州电子科技大学
- 当前专利权人： 杭州电子科技大学
- 当前专利权人地址： 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街
- 代理机构： 杭州君度专利代理事务所
- 代理商 杨舟涛
- 主分类号： C04B41/70
- IPC分类号： C04B41/70 ; C23C14/02 ; C23C14/16 ; C23C14/35
摘要：
本发明属于纳米复合材料合成技术领域，具体涉及一种连环纳米锥周期性阵列制备方法。本发明通过将二氧化硅胶体球自组装技术、等离子刻蚀技术与物理沉积技术相结合，制备出一种新颖的连环纳米锥周期性阵列，该制备方法可以通过改变胶体球的尺寸、等离子刻蚀时间和沉积金属厚度得到不同尺寸的连环纳米锥周期性阵列，且此制备方法较为简单，制备出的连环纳米锥周期性阵列具有均匀性好、有序度高、可重复性强的优点，能够有效地被大规模复制应用。
公开/授权文献
- CN114315416A 一种连环纳米锥周期性阵列制备方法 公开/授权日：2022-04-12
