一种利用化学气相沉积法包覆阻燃性膜层的方法
摘要:
本发明公开一种利用化学气相沉积法包覆阻燃性膜层的方法,所述方法包括:(1)向反应器内通入惰性气体进行吹扫;(2)吹扫结束后,向反应器内通入由惰性气体稀释的硅基前驱体,真空条件下在基底材料表面沉积硅膜层。优选的,所述方法还包括继续向反应器中通入反应气,在硅膜层表面形成Si‑O键,并且形成活性位点,为沉积阻燃层提供更好的吸附环境。最后通入雾化后的含阻燃成分溶液沉积阻燃层,获得具有良好阻燃性能的材料。
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