发明公开
- 专利标题： 一种高脱硼聚酰胺反渗透膜及其制备方法
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申请号： CN202210034683.7申请日： 2022-01-13
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公开(公告)号： CN114345149A公开(公告)日： 2022-04-15
- 发明人: 周勇 , 丁俊毅 , 高从堦
- 申请人： 浙江工业大学
- 申请人地址： 浙江省杭州市拱墅区潮王路18号
- 专利权人： 浙江工业大学
- 当前专利权人： 浙江工业大学
- 当前专利权人地址： 浙江省杭州市拱墅区潮王路18号
- 代理机构： 浙江千克知识产权代理有限公司
- 代理商 赵芳
- 主分类号： B01D71/64
- IPC分类号： B01D71/64 ; B01D69/12 ; B01D61/02 ; B01D67/00
摘要：
本发明公开了一种高脱盐高脱硼的聚酰胺反渗透膜以及其制备方法。本发明提供的聚酰胺反渗透膜，包括多孔支撑层和形成于多孔支撑层上的聚酰胺脱盐层，所述的聚酰胺脱盐层为均苯三甲酰氯与间苯二胺发生酰胺反应形成。本发明通过在反应过程中再次引入柔性聚异丁烯胺高分子进一步调节膜的微纳结构，调节孔径大小，填补反渗透膜的缺陷，从而进一步增强反渗透膜的脱硼性能。本发明提供的聚酰胺反渗透膜具有良好的脱硼性能。