发明授权
- 专利标题: 阵列基板及其制造方法、显示装置
-
申请号: CN202011193425.0申请日: 2020-10-30
-
公开(公告)号: CN114442354B公开(公告)日: 2023-10-20
- 发明人: 张永强 , 徐敬义 , 刘弘 , 刘鹏 , 霍培荣 , 丁爱宇 , 肖振宏 , 李波 , 黄波
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 杨广宇
- 主分类号: G02F1/1333
- IPC分类号: G02F1/1333 ; G02F1/1362 ; G09G3/36
摘要:
本申请公开了一种阵列基板及其制造方法、显示装置,属于显示技术领域。该阵列基板中的衬底具有挖孔区和环绕挖孔区布置的绕线区,加载极性相同电压的第一信号线和第二信号线中,位于绕线区内的第一绕线和第二绕线在衬底上的正投影部分重合。如此,在绕线区内,加载极性相反电压的两条信号线间距增大,产生的寄生电容较小。当阵列基板中的子像素分时充电时,先完成充电的子像素连接的信号线加载的电压,受后进行充电的子像素连接的信号线加载的电压的影响较小,先完成充电的子像素连接的信号线加载的电压不会大幅度降低,提高了子像素的充电率,避免了该阵列基板显示画面上出现暗竖纹的现象,提高了该阵列基板的显示效果。
公开/授权文献
- CN114442354A 阵列基板及其制造方法、显示装置 公开/授权日:2022-05-06
IPC分类: