发明授权
- 专利标题: 光谱辐射计视场响应非均匀性标定方法
-
申请号: CN202111605673.6申请日: 2021-12-25
-
公开(公告)号: CN114459616B公开(公告)日: 2023-06-20
- 发明人: 李益文 , 焦朝强 , 陈戈 , 李瑶 , 化为卓 , 柴世杰 , 李玉琴 , 王超哲 , 张浦幼森
- 申请人: 中国人民解放军空军工程大学
- 申请人地址: 陕西省西安市霸桥区长乐东路甲字1号
- 专利权人: 中国人民解放军空军工程大学
- 当前专利权人: 中国人民解放军空军工程大学
- 当前专利权人地址: 陕西省西安市霸桥区长乐东路甲字1号
- 代理机构: 西安凯多思知识产权代理事务所
- 代理商 康进兴
- 主分类号: G01J5/53
- IPC分类号: G01J5/53 ; G01J5/90 ; G01J3/28
摘要:
本发明一种光谱辐射计视场响应非均匀性的标定方法属于光谱辐射测试设备技术领域,一种光谱辐射计视场响应非均匀性的标定方法包括设置第一黑体、采集第一黑体的电压响应值、求取光谱辐射计的响应函数、设置第二黑体、采集第二黑体的光谱辐射亮度、求取视场响应非均匀性修正系数、光谱辐射强度修正的步骤。非均匀性修正时不受目标辐射源的影响,所述标定方法适用范围广、适用程度强,处理方法简便,在得到非均匀性修正曲线后,无需知道目标辐射源的理论辐射强度,便可对目标辐射源进行标定修正,有利于外场实际测试的应用,提高了光谱辐射计的测量精度。
公开/授权文献
- CN114459616A 光谱辐射计视场响应非均匀性标定方法 公开/授权日:2022-05-10