发明公开
- 专利标题： 光学防伪元件及其制作方法、防伪产品
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申请号： CN202011258235.2申请日： 2020-11-11
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公开(公告)号： CN114475044A公开(公告)日： 2022-05-13
- 发明人: 胡春华 , 张宝利 , 朱军
- 申请人： 中钞特种防伪科技有限公司 , 中国印钞造币总公司
- 申请人地址： 北京市丰台区科学城星火路6号;
- 专利权人： 中钞特种防伪科技有限公司,中国印钞造币总公司
- 当前专利权人： 中钞特种防伪科技有限公司,中国印钞造币总公司
- 当前专利权人地址： 北京市丰台区科学城星火路6号;
- 主分类号： B42D25/30
- IPC分类号： B42D25/30 ; B42D25/328 ; B42D25/373 ; B42D25/40 ; B42D25/45 ; B42D25/455 ; B42D25/46 ; G02B3/00
摘要：
本发明实施例提供一种光学防伪元件，光学防伪元件包括：微透镜阵列层；微图文阵列层；其中，微图文阵列层包含微图文区域和微图文背景区域；微图文区域和微图文背景区域的表面起伏的形状不同；和/或在微图文区域和微图文背景区域设有高度差；以使微透镜陈列层和微图文阵列层在采样合成下，所成像的图文区域和/或图文背景区域具有不同的视觉特征。尤其，随着观察倾角的变化图文和/或图文背景由一种颜色变化为另一种颜色，以此提高抗伪造能力。
公开/授权文献
- CN114475044B 光学防伪元件及其制作方法、防伪产品 公开/授权日：2023-03-10
