- 专利标题: 一种单晶叶片热障涂层的等离子物理气相沉积制备方法
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申请号: CN202210352709.2申请日: 2022-04-06
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公开(公告)号: CN114481235A公开(公告)日: 2022-05-13
- 发明人: 郭洪波 , 魏亮亮 , 彭徽 , 王君武
- 申请人: 北京航空航天大学 , 贵阳航发精密铸造有限公司
- 申请人地址: 北京市海淀区学院路37号;
- 专利权人: 北京航空航天大学,贵阳航发精密铸造有限公司
- 当前专利权人: 北京航空航天大学,贵阳航发精密铸造有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区学院路37号;
- 主分类号: C25D3/50
- IPC分类号: C25D3/50 ; C23C14/02 ; C23C14/04 ; C23C16/06 ; C23C28/00
摘要:
本发明公开了一种单晶叶片热障涂层的等离子物理气相沉积制备方法,包括制备低温渗铝的铂铝涂层:具体包括在基体上电镀铂层,随后在900℃温度下扩散热处理4h,再进行低温渗铝;对低温渗铝粘结层表面进行喷盐处理。采用工业食盐和白刚玉的混合物作为喷盐介质;对混合好的喷盐介质加入喷砂机,调节压缩空气的压力对工件表面进行喷盐处理,在喷盐后对叶片进行水洗,随后再进行等离子物理气相沉积方法制备陶瓷层,本发明采用低温渗铝工艺提高了叶片的力学性能,可以使用普通干喷砂设备进行,采用的喷盐介质成本低,无毒害,喷涂过程中不会产品堵气膜冷却孔的问题,容易实现批量生产。
公开/授权文献
- CN114481235B 一种单晶叶片热障涂层的等离子物理气相沉积制备方法 公开/授权日:2022-08-02