- 专利标题: 一种难降解工业废水超低排放深度处理方法及系统
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申请号: CN202210080512.8申请日: 2022-01-24
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公开(公告)号: CN114524577B公开(公告)日: 2023-12-29
- 发明人: 黄霞 , 上野俊一朗 , 刘春 , 吉田有香 , 盐田朋彦 , 山下雅治 , 石井浩介 , 坂井慎一
- 申请人: 清华大学 , 株式会社IHI
- 申请人地址: 北京市海淀区双清路30号清华大学
- 专利权人: 清华大学,株式会社IHI
- 当前专利权人: 清华大学,株式会社IHI
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区双清路30号清华大学
- 代理机构: 北京路浩知识产权代理有限公司
- 代理商 钱云
- 主分类号: C02F9/00
- IPC分类号: C02F9/00 ; C02F101/30 ; C02F1/72 ; C02F1/78 ; C02F1/20 ; C02F7/00 ; C02F3/12
摘要:
本发明公开了一种难降解工业废水超低排放深度处理方法及系统。所述系统包括依次连接的臭氧发生器;微气泡发生器;臭氧催化氧化反应器;曝气脱氧罐;和好氧生物膜反应器。本发明充分利用了微气泡(催化)臭氧化的强氧化能力和高反应效率,以及好氧生化处理的低成本运行,在难降解工业废水深度处理中应用,臭氧利用率达到90%以上,单次梯级处理难降解有机物矿化去除率可达到50‑60%,两次梯级循环处理或两级梯级处理难降解有机物矿化去除率可达到70‑80%,处理后出水COD浓度可降至50mg/L以下,满足更严格排放标准要求。
公开/授权文献
- CN114524577A 一种难降解工业废水超低排放深度处理方法及系统 公开/授权日:2022-05-24