发明公开
- 专利标题: 基于溅射AlON/金刚石基板的HEMT器件及其制备方法
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申请号: CN202011322843.5申请日: 2020-11-23
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公开(公告)号: CN114530374A公开(公告)日: 2022-05-24
- 发明人: 许晟瑞 , 杜金娟 , 苏华科 , 张金风 , 彭若诗 , 周弘 , 张春福 , 张进成 , 郝跃
- 申请人: 西安电子科技大学芜湖研究院
- 申请人地址: 安徽省芜湖市弋江区高新技术产业开发区服务外包产业园4号楼1205室
- 专利权人: 西安电子科技大学芜湖研究院
- 当前专利权人: 西安电子科技大学芜湖研究院
- 当前专利权人地址: 安徽省芜湖市弋江区高新技术产业开发区服务外包产业园4号楼1205室
- 代理机构: 西安嘉思特知识产权代理事务所
- 代理商 刘长春
- 主分类号: H01L21/335
- IPC分类号: H01L21/335 ; H01L29/778 ; H01L29/06
摘要:
本发明公开了一种基于溅射AlON/金刚石基板的HEMT器件及其制备方法,所述制备方法包括:获取金刚石衬底并进行预处理;在所述金刚石衬底表面形成溅射AlON过渡层;在溅射AlON过渡层上依次生长GaN缓冲层、AlGaN势垒层以及GaN帽层;在GaN帽层上制作金属电极以完成器件的制备。本发明通过在金刚石衬底与GaN缓冲层之间引入溅射AlON过渡层,可以实现在金刚石衬底上直接生长GaN及其异质结构,避免了传统方法中的衬底剥离和键合技术对器件造成的影响,提高了器件性能,且工艺简单。