发明公开
- 专利标题: 一种高遮盖高分散性改性微硅粉及其制备方法
-
申请号: CN202210192476.4申请日: 2022-03-01
-
公开(公告)号: CN114539815A公开(公告)日: 2022-05-27
- 发明人: 杨妮 , 林琳 , 杨振 , 谢刚 , 李小英 , 田林 , 庄晓东 , 彭学斌
- 申请人: 昆明冶金研究院有限公司
- 申请人地址: 云南省昆明市五华区圆通北路86号
- 专利权人: 昆明冶金研究院有限公司
- 当前专利权人: 昆明冶金研究院有限公司
- 当前专利权人地址: 云南省昆明市五华区圆通北路86号
- 代理机构: 云南律翔知识产权代理事务所
- 代理商 谢乔良
- 主分类号: C09C1/30
- IPC分类号: C09C1/30 ; C09C3/04 ; C09C3/06 ; C09C3/08 ; C08K9/10 ; C08K3/36 ; C08K9/04 ; C08K9/02 ; C09D7/62
摘要:
本发明公开了一种高遮盖高分散性改性微硅粉及其制备方法。所述的高遮盖高分散性改性微硅粉的遮盖力为70%以上,分散性能为35微米以下,是以微硅粉颗粒为原料,经前处理、钛包膜、铝包膜和后处理步骤制备得到。制备方法包括前处理、锆包膜、铝包膜和后处理步骤。本发明所述的高遮盖高分散性改性微硅粉适用于普通涂料、汽车底漆、化妆品领域的钛白粉的遮盖率为70%以上,分散性能为35微米以下,改性后的微硅粉根据适用领域的要求不同全部或部分替代钛白粉、锌白、立德粉、锑白、铅白等颜料。