- 专利标题： 一种含茚并噻吩二氧化物结构的化合物及其应用
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申请号： CN202210334999.8申请日： 2022-03-31
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公开(公告)号： CN114573601B公开(公告)日： 2024-01-05
- 发明人: 郭宇星 , 张小玲 , 曹占广 , 呼建军 , 石志亮 , 张朝霞 , 杭德余
- 申请人： 北京燕化集联光电技术有限公司
- 申请人地址： 北京市房山区燕山东风街道双泉路2号(地毯厂内)11号楼3幢
- 专利权人： 北京燕化集联光电技术有限公司
- 当前专利权人： 北京燕化集联光电技术有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市房山区燕山东风街道双泉路2号(地毯厂内)11号楼3幢
- 代理机构： 北京睿阳联合知识产权代理有限公司
- 代理商 杨金贤; 康志梅
- 主分类号： C07D495/10
- IPC分类号： C07D495/10 ; C07D517/10 ; C07F9/6568 ; C07F7/08 ; H10K50/165 ; H10K85/60
摘要：
本发明涉及有机电致发光显示技术领域，具体公开了一种含茚并噻吩二氧化物结构的化合物，同时还公开了其在有机电致发光器件中的应用。本发明提供的含茚并噻吩二氧化物结构的化合物如通式(Ⅰ)所示，可以应用在有机电致发光领域，作为电子传输材料使用。本发明提供的该结构化合物应用于OLED器件中，能够降低驱动电压，提高器件发光效率，延长器件寿命。
公开/授权文献
- CN114573601A 一种含茚并噻吩二氧化物结构的化合物及其应用 公开/授权日：2022-06-03
