发明公开
- 专利标题: VDMOS电磁脉冲效应的仿真方法、系统及设备
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申请号: CN202210158028.2申请日: 2022-02-21
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公开(公告)号: CN114638187A公开(公告)日: 2022-06-17
- 发明人: 杨静琦 , 周洁 , 姜来 , 马喆 , 朱云亮 , 肖柯 , 王智斌
- 申请人: 中国航天科工集团第二研究院
- 申请人地址: 北京市海淀区永定路50号31号楼
- 专利权人: 中国航天科工集团第二研究院
- 当前专利权人: 中国航天科工集团第二研究院
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区永定路50号31号楼
- 代理机构: 中国航天科工集团公司专利中心
- 代理商 葛鹏
- 主分类号: G06F30/36
- IPC分类号: G06F30/36
摘要:
本发明公开了VDMOS电磁脉冲效应的仿真方法、系统、仿真设备及存储介质。涉及仿真技术领域。将ESD防护加入VDMOS器件的仿真结构中,使得VDMOS应对外界电磁脉冲的自身条件更接近现实,可有效指导VDMOS电磁脉冲防护设计。仿真方法包括:构建模型,模型包括仿真模型和对比模型,仿真模型包括第一VDMOS以及与第一VDMOS电连接的静电防护结构,对比模型包括第二VDMOS;对对比模型所包括的第二VDMOS施加电磁脉冲,并获得脉冲曲线,以仿真第二VDMOS栅氧层峰值电场与电磁脉冲的关系;对对比模型所包括的第二VDMOS所包括的栅氧层击穿的电磁脉冲阈值条件进行仿真,确定电磁脉冲阈值。对仿真模型所包括的电极施加电流脉冲,获得脉冲曲线,以仿真第一VDMOS栅氧层峰值电场与电磁脉冲的关系。