发明公开
- 专利标题: 阵列基板及其制备方法、显示面板
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申请号: CN202080002172.6申请日: 2020-09-29
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公开(公告)号: CN114651208A公开(公告)日: 2022-06-21
- 发明人: 任文明 , 胡金良 , 马健 , 詹成勇
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京律智知识产权代理有限公司
- 代理商 王辉; 阚梓瑄
- 国际申请: PCT/CN2020/119046 2020.09.29
- 国际公布: WO2022/067574 ZH 2022.04.07
- 进入国家日期: 2020-09-30
- 主分类号: G02F1/1362
- IPC分类号: G02F1/1362
摘要:
一种阵列基板及其制备方法、显示面板,属于显示技术领域。该阵列基板的制备方法包括:提供衬底基板(100);在衬底基板(100)上形成驱动电路层(200),所述驱动电路层(200)包括开关晶体管(210);在所述驱动电路层(200)远离所述衬底基板(100)的一侧形成绝缘材料层(300),所述绝缘材料层(300)具有暴露所述开关晶体管(210)的漏极(220)的至少部分区域的连接过孔(310);在所述绝缘材料层(300)远离所述衬底基板(100)的一侧形成电极层(400),所述电极层(400)远离所述衬底基板(100)的表面具有延伸至所述连接过孔(310)的沟槽结构(401)。该制备方法可以避免形成取向层(500)时发生涂覆不良。
公开/授权文献
- CN114651208B 阵列基板及其制备方法、显示面板 公开/授权日:2023-11-10
IPC分类: