- 专利标题: 一种用于镜面抛光的浮动动力抛光头及抛光方法
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申请号: CN202210670409.9申请日: 2022-06-15
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公开(公告)号: CN114770339B公开(公告)日: 2022-09-06
- 发明人: 李研 , 施文佳
- 申请人: 沃中孚精密主轴昆山有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市昆山市千灯镇圣祥中路298号5号房
- 专利权人: 沃中孚精密主轴昆山有限公司
- 当前专利权人: 沃中孚精密主轴昆山有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市昆山市千灯镇圣祥中路298号5号房
- 代理机构: 江苏智天知识产权代理有限公司
- 代理商 翟国明
- 主分类号: B24B29/02
- IPC分类号: B24B29/02 ; B24B41/047 ; B24B41/06 ; B24B55/00
摘要:
本发明公开了一种用于镜面抛光的浮动动力抛光头及抛光方法,应用在半导体设备领域,其技术方案要点是:包括打磨盘、旋转驱动组件和外壳体;旋转驱动组件包括带动打磨盘旋转的转轴和带动转轴旋转的无轴电机,转轴与打磨盘之间设置有连接两者并供打磨盘浮动偏斜的浮动调心组件,浮动调心组件包括与转轴同步转动的调心轴和套设在调心轴外侧供调心轴偏斜的调心座;调心座与转轴固定连接,转轴套设在调心轴外侧;具有的技术效果是:调心轴与转轴之间采用轴中轴的设置,转轴为打磨盘提供旋转动力,调心轴为打磨盘提供浮动偏斜功能,两者结合实现了在极小空间内浮动偏斜加动力驱动两个功能的结合,占用空间小。
公开/授权文献
- CN114770339A 一种用于镜面抛光的浮动动力抛光头及抛光方法 公开/授权日:2022-07-22