本公开实施例提供一种阵列基板的制备方法，其中，包括：在基底上制备像素驱动电路；在完成上述步骤的所述基底上制备绝缘平坦层；在完成上述步骤的所述基底上制备多个像素电极；所述多个像素电极分别通过开设在所述绝缘平坦层中的过孔连接所述像素驱动电路；所述多个像素电极排布呈阵列；沿所述阵列的行方向和/或列方向，任意相邻两个所述像素电极之间的间隔距离小于或等于设定值；第2n‑1个像素电极为第一像素电极；第2n个像素电极为第二像素电极；制备所述像素电极包括：所述第一像素电极通过第一次构图工艺制备；所述第二像素电极通过第二次构图工艺制备；其中，n为正整数。