发明授权
- 专利标题: 一种研抛一体装置及其运行方法
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申请号: CN202210729480.X申请日: 2022-06-24
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公开(公告)号: CN114932500B公开(公告)日: 2023-08-04
- 发明人: 殷景飞 , 尚修栋 , 徐九华 , 傅玉灿 , 丁文锋 , 苏宏华 , 陈燕
- 申请人: 南京航空航天大学
- 申请人地址: 江苏省南京市御道街29号
- 专利权人: 南京航空航天大学
- 当前专利权人: 南京航空航天大学
- 当前专利权人地址: 江苏省南京市御道街29号
- 代理机构: 南京经纬专利商标代理有限公司
- 代理商 曹翠珍
- 主分类号: B24B37/00
- IPC分类号: B24B37/00 ; B24B37/34 ; B24B29/02 ; B24B57/02 ; B24B1/00
摘要:
本发明涉及一种研抛一体装置及其运行方法,该装置的研磨盘安置于机体上且连接至电机,换向导轮臂固定于机体台面上,行星环和配重块组件置于换向导轮臂内,行星环朝向研磨盘的一面边缘设有顺时针的螺旋齿,配重块底部粘附工件;在研磨盘转动时,行星环受限于换向导轮臂的作用,构成旋转力矩,产生自转,旋转方向与研磨盘转动方向相反;研磨时,研磨盘顺时针旋转,行星环逆时针旋转,行星环的顺时针旋向螺旋齿形结构借助离心力,加快磨屑废料沿磨屑废料甩出。抛光时,研磨盘逆时针转动,行星环顺时针转动,其螺旋齿形结构将研磨盘上的抛光液不断吞入行星环组件的抛光室内,抛光液均匀充分的分布在工件底部。实现工件的高效、高质抛光研磨。
公开/授权文献
- CN114932500A 一种研抛一体装置及其运行方法 公开/授权日:2022-08-23