本发明属于聚变技术领域，具体涉及一种适合聚变装置的高速杂质弹丸旋转发射器，包括：转盘组、加速系统和真空高速伺服电机系统；转盘组，包括：两个并排设置的固定盘和设置在两个固定盘之间的旋转盘；旋转盘上开设有用于多个固定杂质弹丸的小孔，两个固定盘上均开设有与小孔对位的对穿孔；真空高速伺服电机系统，用于带动旋转盘转动，以使小孔与对穿孔对位；加速系统，用于当第一小孔与对穿孔对位时，对第一小孔上的杂质弹丸进行加速发射；第一小孔是多个小孔中的任一个。该高速杂质弹丸旋转发射器，能按照要求连续注入不同种类和尺寸、速度的微小杂质颗粒，以便研究杂质输运或实现实时在线器壁处理。