本发明公开了超高正弦孔道暴露比ZSM‑5分子筛及其制备方法，属在无机化学技术领域。以“结构单元mfi”作为晶种(mfi结构单元属在MFI结构四个基本组成单元之一)，具体制备过程包括三个步骤：1)“mfi结构单元”制备，将MCM‑35分子筛粉末(wt％＝0.05～0.5)加入到pH＝12～15氢氧化钠溶液中进行碱处理；2)以“结构单元mfi”为晶种的水热合成，将碱处理混合物进行冷却，依次加入硅源与铝源，在15～30℃下搅拌0.5～3小时后将合成前躯体装入反应釜并转移至均相反应器中晶化；3)产物收集，晶化产物经离心分离、洗涤至中性、干燥后得到95％超高正弦孔道暴露比ZSM‑5分子筛。该分子筛其表面超高正弦孔道暴露比，在二甲苯异构体分离过程中展示了显著提升对二甲苯选择性，同时其制备过程操作简单、成本低。