- 专利标题: 一种基于第一性原理设计金属离子掺杂改善银与氧化锡润湿性的方法
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申请号: CN202210687734.6申请日: 2022-06-16
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公开(公告)号: CN115028194B公开(公告)日: 2022-11-22
- 发明人: 邵文柱 , 陈梓尧 , 李洋 , 孙一民
- 申请人: 哈尔滨工业大学
- 申请人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 专利权人: 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人: 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 代理机构: 哈尔滨华夏松花江知识产权代理有限公司
- 代理商 侯静
- 主分类号: C01G19/02
- IPC分类号: C01G19/02 ; C01G5/00
摘要:
一种基于第一性原理设计金属离子掺杂改善银与氧化锡润湿性的方法,涉及一种改善银与氧化锡润湿性的方法。本发明是要解决目前电接触材料Ag/SnO2中Ag与SnO2之间的润湿性较差的技术问题。本发明提出采用第一性原理计算,可从原子尺度、基于元素特性和晶体结构,计算氧化锡与银界面的结合强度,并对元素间的电子轨道杂化,电荷转移等进行定量分析,从而获得金属离子掺杂改善氧化锡与银界面结合的机理。金属银易失电子,而当低价金属离子掺杂时会将氧化锡转变为P型半导体,以空穴作为载流子,而空穴载流子将与来自Ag的电子配对,在表层产生更大的电荷转移,从而形成更强的Ag‑O键,最终提高Ag与SnO2的界面润湿性。
公开/授权文献
- CN115028194A 一种基于第一性原理设计金属离子掺杂改善银与氧化锡润湿性的方法 公开/授权日:2022-09-09
IPC分类: