本发明涉及一种双相高耐蚀铜箔及其制备方法，属于金属材料领域，该铜箔组分是在纯铜的基础上添加微量元素铈和硼，制备步骤包括按质量百分比称取原料，采用石墨坩埚在真空熔炼炉中熔炼，将高纯Cu块、高纯B颗粒、高纯Ce颗粒放在真空熔炼炉中的石墨坩埚中，关闭炉门并抽真空，采用氩气气氛保护防止氧化，控制熔炼电流至合金块全部熔化，随后浇注于圆形铜模具中，加工成圆饼状，利用磁控溅射设备溅射到钛板上得到铜箔。本发明能得到厚度为1‑10μm的铜箔，基体为铜，该铜箔的晶界上分布着非晶态的硼颗粒，其耐蚀性得到大幅度提升，Ce对铜箔组织起到晶粒细化的作用。本发明双相铜箔材料是一种新型高耐蚀铜箔材料，其制备方法具有环保、制备简单等优点。