发明公开
CN115079520A 工件批量曝光方法及设备
审中-实审
- 专利标题： 工件批量曝光方法及设备
-
申请号： CN202210762452.8申请日： 2022-06-29
-
公开(公告)号： CN115079520A公开(公告)日： 2022-09-20
- 发明人: 蔡志国 , 江俊龙 , 普丽宏 , 沈菊英 , 王志
- 申请人： 深圳凯世光研股份有限公司
- 申请人地址： 广东省深圳市宝安区西乡固戍航城大道U8智造产业园U4栋一层103~108
- 专利权人： 深圳凯世光研股份有限公司
- 当前专利权人： 深圳凯世光研股份有限公司
- 当前专利权人地址： 广东省深圳市宝安区西乡固戍航城大道U8智造产业园U4栋一层103~108
- 代理机构： 苏州威世朋知识产权代理事务所
- 代理商 郜商羽
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
本发明提供一种工件批量曝光方法及设备，设计光伏加工技术领域，所提供的工件批量曝光方法和设备能够通过固定相机组同时对批量呈阵列排布的工件进行拍摄和图像检测，基于图像信息检测获得工件边缘轮廓信息后，将工件的偏移信息和偏转角度提供给曝光装置，对曝光图案调整后进行曝光处理。方法和设备适用于表面没有定位标记的工件，能够准确对大批量工件同时进行坐标位置检测和曝光处理，工作效率高的同时工件图案曝光准确率高。
IPC分类:
