本申请实施例提供了一种镀膜以及镀膜的制备方法；制备方法包括：开启弧靶进行溅射，弧靶溅射材料为Cr，对基体施加第一负偏压，将Cr沉积到基体的表面形成底层；通入氮气和乙炔，以Cr靶和Si靶为靶材，在底层上共溅射，以在底层上沉积形成CrSi复合膜层，CrSi复合膜层为中间层；继续通入氮气和乙炔，以Cr靶和Si靶为靶材，在CrSi复合膜层上共溅射，通过控制Cr靶和Si靶的电流逐渐减小来调整Cr和Si的比例，在CrSi复合膜层上沉积形成渐变层；及继续通入氮气和乙炔，以Cr靶和Si靶为靶材，将Cr靶和Si靶的电流调整为＜10A，在渐变层上沉积形成颜色层，颜色层包括CrSiCN成分，最终在基体上形成镀膜。