发明公开
- 专利标题: 显示基板及其制作方法、显示装置
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申请号: CN202180000217.0申请日: 2021-02-09
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公开(公告)号: CN115210880A公开(公告)日: 2022-10-18
- 发明人: 孙艳六 , 梁蓬霞 , 石戈 , 韩佳慧 , 董学 , 张世玉 , 刘玉杰 , 杨松 , 王宇瑶
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 许静; 胡影
- 国际申请: PCT/CN2021/076256 2021.02.09
- 国际公布: WO2022/170479 ZH 2022.08.18
- 进入国家日期: 2021-02-10
- 主分类号: H01L27/32
- IPC分类号: H01L27/32 ; H01L51/52
摘要:
本公开提供一种显示基板及其制作方法、显示装置。所述显示基板包括:设置于基底上的多个亚像素,亚像素包括:亚像素开口区,反射层,绝缘层,相互独立的多个阳极图形,发光功能层和阴极,反射层在基底上的正投影与亚像素开口区在基底上的正投影至少部分交叠;绝缘层位于反射层背向基底的一侧;多个阳极图形位于绝缘层背向基底的一侧,多个阳极图形在基底上的正投影,均与亚像素开口区在基底上的正投影至少部分交叠;发光功能层位于多个阳极图形背向基底的一侧,发光功能层在基底上的正投影,位于亚像素开口区在基底上的正投影的内部;阴极位于发光功能层背向基底的一侧,阴极在基底上的正投影,覆盖发光功能层在基底上的正投影。
IPC分类: