发明公开
CN115319636A 研磨机及其箱体
审中-实审
- 专利标题: 研磨机及其箱体
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申请号: CN202110509513.5申请日: 2021-05-11
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公开(公告)号: CN115319636A公开(公告)日: 2022-11-11
- 发明人: 李青 , 李赫然 , 刘东阳 , 王俊明 , 张志刚 , 赵玉乐 , 周鹏 , 王光祥
- 申请人: 山西光兴光电科技有限公司 , 东旭科技集团有限公司 , 东旭光电科技股份有限公司
- 申请人地址: 山西省太原市唐槐园区唐槐路96号山西圣逢茂汇科技有限公司综合楼7层701-702室; ;
- 专利权人: 山西光兴光电科技有限公司,东旭科技集团有限公司,东旭光电科技股份有限公司
- 当前专利权人: 山西光兴光电科技有限公司,东旭科技集团有限公司,东旭光电科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 山西省太原市唐槐园区唐槐路96号山西圣逢茂汇科技有限公司综合楼7层701-702室; ;
- 代理机构: 北京润平知识产权代理有限公司
- 代理商 岳永先; 邱成杰
- 主分类号: B24B37/10
- IPC分类号: B24B37/10 ; B24B37/34 ; B24B55/00
摘要:
本发明涉及研磨设备领域,公开了一种研磨机及其箱体,其中,所述研磨机箱体包括箱主体(10)、顶盖(20)和接水盒(30),所述箱主体的顶部敞开,所述顶盖间隔地设置在所述箱主体的上方,所述顶盖具有朝向所述箱主体的内壁,所述内壁具有从所述箱主体的中部上方向所述箱主体的边缘向下倾斜的引导面(21),所述接水盒邻近地设置在所述箱主体的外侧,以接收所述引导面引导的凝结水。箱主体内的水汽在顶盖处凝结后可以沿引导面引导至接水盒,一方面降低研磨机箱体内的湿度,另一方面减少滴落在箱主体内的水并因此降低对其中的机械构件和电器线路的影响。