发明授权
- 专利标题: 一种用于电化学除硬的疏松垢层沉积方法
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申请号: CN202210751850.X申请日: 2022-06-29
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公开(公告)号: CN115340197B公开(公告)日: 2023-08-22
- 发明人: 朱田震 , 纪巍 , 何爱珍 , 于德泽 , 姚光源 , 张迪彦 , 陶蕾 , 王萌 , 滕厚开 , 衣龙欣 , 秦立娟 , 赵新星 , 王宁
- 申请人: 天津正达科技有限责任公司 , 中海油天津化工研究设计院有限公司 , 中海油能源发展股份有限公司
- 申请人地址: 天津市滨海新区天津自贸试验区(空港经济区)环河南路225; ;
- 专利权人: 天津正达科技有限责任公司,中海油天津化工研究设计院有限公司,中海油能源发展股份有限公司
- 当前专利权人: 天津正达科技有限责任公司,中海油天津化工研究设计院有限公司,中海油能源发展股份有限公司
- 当前专利权人地址: 天津市滨海新区天津自贸试验区(空港经济区)环河南路225; ;
- 代理机构: 天津市尚仪知识产权代理事务所
- 代理商 孙乔乔
- 主分类号: C02F5/00
- IPC分类号: C02F5/00 ; C02F101/10
摘要:
本发明公开了一种用于电化学除硬的疏松垢层沉积方法,通过调控介质流速、介质化学组成、阴极电流密度、反应器中电极形状、表面状态及电极排布实现。本发明方法适用于钙硬度≥200mg/L、碳酸盐碱度≥75mg/L、pH≥6.5,含油量≤20ppm、温度≤60℃、不含或含有无机或有机阻垢剂的工业及生活用水的软化处理。垢层沉积方法的电流密度≥10A/m2、介质流速≤0.03m/s,反应器中阳极围绕阴极均匀分布,阴极表面电流密度均≥10A/m2,且阴极为板状或直丝状导电材料,表面平滑。本发明通过有效调控电极表面沉积垢层所需条件,提升垢层疏松度,以此降低垢层清理难度,并提升电流效率,改善设备除硬性能。
公开/授权文献
- CN115340197A 一种用于电化学除硬的疏松垢层沉积方法 公开/授权日:2022-11-15