Invention Grant
- Patent Title: 一种可调节孔径的沉淀型二氧化硅及其制备方法和应用
-
Application No.: CN202211080695.XApplication Date: 2022-09-05
-
Publication No.: CN115385347BPublication Date: 2023-03-14
- Inventor: 司徒粤 , 黄洪 , 何元烈 , 米霜 , 邹坚涛 , 张云龙
- Applicant: 金三江(肇庆)硅材料股份有限公司
- Applicant Address: 广东省肇庆市高新区迎宾大道23号
- Assignee: 金三江(肇庆)硅材料股份有限公司
- Current Assignee: 金三江(肇庆)硅材料股份有限公司
- Current Assignee Address: 广东省肇庆市高新区迎宾大道23号
- Agency: 广州科沃园专利代理有限公司
- Agent 王亚琳
- Main IPC: C01B33/193
- IPC: C01B33/193 ; A23L29/00 ; A61K47/04
Abstract:
本发明属于无机新材料技术领域,具体涉及一种可调节孔径的沉淀型二氧化硅及其制备方法和应用,具体制备方法如下:S1、向反应釜中加入硫酸钠和焦磷酸钾,然后加入硫酸溶液和硅酸钠溶液搅拌、陈化;S2、同时滴加硅酸钠溶液和硫酸溶液,当硅酸钠溶液达到预设用量时,停止滴加硅酸钠溶液,继续滴加硫酸溶液,搅拌、陈化、压滤,制得滤饼;S3、洗涤、干燥破碎,即得。本发明提供的制备方法,在不添加表面活性剂、扩孔剂等有机助剂的情况下,通过优化硫酸钠溶液浓度和过程pH来实现窄孔径分布,结合焦磷酸钾的缩孔作用实现平均孔径大小调控,但对孔径分布没有不良影响,符合吸附负载材料的要求。
Public/Granted literature
- CN115385347A 一种可调节孔径的沉淀型二氧化硅及其制备方法和应用 Public/Granted day:2022-11-25
Information query
IPC分类: