发明公开
- 专利标题: 一种变截面屏蔽装置以及核设施屏蔽系统
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申请号: CN202211014775.5申请日: 2022-08-23
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公开(公告)号: CN115410737A公开(公告)日: 2022-11-29
- 发明人: 田英男 , 谢思洋 , 常叶笛 , 王晓霞 , 邱林 , 米爱军 , 王炳衡 , 刘耸 , 尤伟 , 陈宗欢 , 朱治钢 , 王雅霄 , 高桂玲 , 李晓静 , 李卓然 , 刘雪凇
- 申请人: 中国核电工程有限公司
- 申请人地址: 北京市海淀区西三环北路117号
- 专利权人: 中国核电工程有限公司
- 当前专利权人: 中国核电工程有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区西三环北路117号
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 邓伯英; 罗建民
- 主分类号: G21F1/04
- IPC分类号: G21F1/04 ; G21F1/08 ; G21F3/00
摘要:
本发明公开一种变截面屏蔽装置,包括:屏蔽装置本体,屏蔽装置本体安装于贯穿孔洞内,用于屏蔽电离辐射,屏蔽装置本体沿贯穿孔洞的轴向延伸,屏蔽装置本体的直径沿贯穿孔洞的轴向减小,以使屏蔽装置本体的竖直截面呈锥形,屏蔽装置本体的横截面较小的一端用于朝前插入贯穿孔洞,屏蔽装置本体由一个或多个屏蔽单元组成,屏蔽单元包括中心轴和螺旋叶片,中心轴沿贯穿孔洞的轴向延伸,螺旋叶片绕设于中心轴上,螺旋叶片的外沿抵接于贯穿孔洞的内壁,螺旋叶片用于对射线进行散射、慢化以及吸收,以降低辐射强度和射线能量。因此,本变截面屏蔽装置能够有效地屏蔽电离辐射及辐射漏束并避免潜在的辐射风险。本发明还公开了一种核设施屏蔽系统。