- 专利标题: 掩膜版、磁控溅射设备、发光器件、显示面板和显示装置
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申请号: CN202211167932.6申请日: 2022-09-23
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公开(公告)号: CN115505871B公开(公告)日: 2024-03-19
- 发明人: 黄璟伟 , 李在濠 , 高栋雨 , 仝勋飞 , 聂汉 , 邓成绩 , 陈佳 , 赵根 , 姜行宗 , 杨春梅 , 杜陵 , 邓应雄 , 何刘 , 吕彤
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方显示技术有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,重庆京东方显示技术有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,重庆京东方显示技术有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京市铸成律师事务所
- 代理商 韩月琴; 包莉莉
- 主分类号: C23C14/04
- IPC分类号: C23C14/04 ; C23C14/35 ; H10K71/16 ; H10K50/10 ; H10K59/10
摘要:
本申请实施例提供一种掩膜版、磁控溅射设备、发光器件、显示面板和显示装置,其中,掩膜版包括:掩膜版本体,掩膜版本体上形成有沿第一方向间隔排布的多个像素开口列,像素开口列包括沿第二方向间隔排布的多个像素开口,第二方向垂直于第一方向;多个磁性件,沿第一方向间隔设置于掩膜版本体,各磁性件分别沿第二方向延伸,至少一对相邻像素开口列之间设置有磁极方向相反的两个磁性件。本申请实施例的技术方案可以避免蒸镀材料在掩膜版本体上堆积而堵塞像素开口,从而可以避免产生混色问题。
公开/授权文献
- CN115505871A 掩膜版、磁控溅射设备、发光器件、显示面板和显示装置 公开/授权日:2022-12-23
IPC分类: