发明授权
- 专利标题： 多段线性渐变密度滤光片的加工方法
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申请号： CN202211328680.0申请日： 2022-10-27
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公开(公告)号： CN115521076B公开(公告)日： 2024-01-30
- 发明人: 张勇喜 , 金秀 , 杨文华 , 刘佩闻 , 胡雯雯 , 李明华 , 穆佳丽
- 申请人： 沈阳仪表科学研究院有限公司
- 申请人地址： 辽宁省沈阳市大东区北海街242号
- 专利权人： 沈阳仪表科学研究院有限公司
- 当前专利权人： 沈阳仪表科学研究院有限公司
- 当前专利权人地址： 辽宁省沈阳市大东区北海街242号
- 代理机构： 沈阳亚泰专利商标代理有限公司
- 代理商 郭元艺
- 主分类号： C03C17/06
- IPC分类号： C03C17/06 ; G02B5/20
摘要：
本发明属光学薄膜元件领域，尤其涉及一种多段线性渐变密度滤光片的加工方法。在透明玻璃基片(101)上沉积衰减膜(102)；在沉积衰减膜白区段到深区段的逐渐沉积过渡，并且在沉积过渡中，其对应光密度变化至少有两段呈线性增加。本发明多段线性渐变密度滤光片将渐变过程分成多个线性渐变区，可以保障调节范围的条件下实现在特定区段特定分辨率的要求。本发明变密度滤光片从空白区到最深区光密度的变化过程至少由两段单调增加的线段构成，可以满足光学系统在不同衰减量时的不同分辨率要求。(102)过程中，采用以光密度渐变方式实现由空
公开/授权文献
- CN115521076A 多段线性渐变密度滤光片的加工方法 公开/授权日：2022-12-27
