本发明涉及真空镀膜设备领域，尤其涉及一种用于真空镀膜膜厚测试的支架，包括支撑圈，所述支撑圈的外周均匀分布有用于调节样品位置的位置调节机构，所述位置调节机构的上下端均设置有用于夹持样品的样品夹持机构，所述支撑杆相靠近的一端均固定连接在吊杆的下端外周，本发明通过位置调节机构调节样品的位置，不仅节省了测试成本，而且使测试结果更加准确，且通过样品夹持机构内的限位组件和连接组件以及调节组件，实现了在母板的样品切割尺寸出现误差时，仍然能将母板的样品夹紧，并且夹持时具有一定的缓冲效果，避免直接对母板的样品进行硬性夹持导致其发生破裂损坏的情况。