- 专利标题: 一种制备低基平面位错的碳化硅单晶晶锭生长系统及方法
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申请号: CN202211523985.7申请日: 2022-12-01
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公开(公告)号: CN115537927B公开(公告)日: 2023-03-10
- 发明人: 高冰 , 叶宏亮 , 李俊
- 申请人: 浙江晶越半导体有限公司
- 申请人地址: 浙江省绍兴市嵊州市浦口街道浦南大道368号9号厂房二楼202室
- 专利权人: 浙江晶越半导体有限公司
- 当前专利权人: 浙江晶越半导体有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省绍兴市嵊州市浦口街道浦南大道368号9号厂房二楼202室
- 代理机构: 浙江千克知识产权代理有限公司
- 代理商 沈涛
- 主分类号: C30B29/36
- IPC分类号: C30B29/36 ; C30B23/00
摘要:
本发明涉及晶体生长领域,具体涉及一种制备低基平面位错的碳化硅单晶晶锭生长系统及方法,所述生长系统包括坩埚本体以及位于坩埚本体上方的坩埚盖,还包括籽晶支撑结构,其由若干均匀分布于坩埚本体内壁的支撑棒构成;圆筒式加热器,其设置在坩埚本体的外侧,且可沿竖直方向调节高度。本发明通过将籽晶的布置方式由粘贴固定式改为支撑式,可以减少由于粘结固定造成的籽晶内部应力增加,进而降低晶体内部的位错密度,同时通过设置圆筒式电阻加热器,可以在晶体生长结束后,通过调整功率变化速度,从而控制碳化硅晶体降温速率,能够有效减少因温度变化速率不合理导致的位错密度增加问题。
公开/授权文献
- CN115537927A 一种制备低基平面位错的碳化硅单晶晶锭生长系统及方法 公开/授权日:2022-12-30
IPC分类: