发明公开
- 专利标题: 硼去除装置及方法、纯水制造装置以及纯水制造方法
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申请号: CN202180034472.7申请日: 2021-03-30
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公开(公告)号: CN115551809A公开(公告)日: 2022-12-30
- 发明人: 高桥一重 , 须藤史生 , 中村勇规 , 柴崎贤治 , 佐佐木庆介
- 申请人: 奥加诺株式会社
- 申请人地址: 日本国东京都
- 专利权人: 奥加诺株式会社
- 当前专利权人: 奥加诺株式会社
- 当前专利权人地址: 日本国东京都
- 代理机构: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司
- 代理商 张黎; 龚敏
- 优先权: 2020-087982 20200520 JP
- 国际申请: PCT/JP2021/013584 2021.03.30
- 国际公布: WO2021/235107 JA 2021.11.25
- 进入国家日期: 2022-11-10
- 主分类号: C02F1/469
- IPC分类号: C02F1/469 ; B01D61/02 ; B01D61/48 ; B01D61/58 ; C02F9/02 ; C02F9/06 ; C02F9/12 ; C02F1/32 ; C02F1/42 ; C02F1/44
摘要:
本发明提供一种降低被处理水中的硼浓度的硼去除装置及硼去除方法、降低了硼浓度的纯水的制造装置以及制造方法。本发明使用硼去除装置和使用该装置的硼去除方法,所述硼去除装置具有:第一电再生式去离子装置,其被供给被处理水;紫外线氧化装置,其被供给由所述第一电再生式去离子装置处理后的水;氧化物去除装置,其被供给由所述紫外线氧化装置处理后的水;以及第二电再生式去离子装置,其被供给由所述氧化物去除装置处理后的水。所述氧化物去除装置优选具备铂族金属催化剂,由所述氧化物去除装置处理后的水的过氧化氢浓度小于1ppb。