发明公开
CN115655146A 一种面型测量系统和设备
审中-实审
- 专利标题: 一种面型测量系统和设备
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申请号: CN202211212814.2申请日: 2022-09-30
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公开(公告)号: CN115655146A公开(公告)日: 2023-01-31
- 发明人: 徐杰 , 绪海波 , 方洋
- 申请人: 昂纳信息技术(深圳)有限公司
- 申请人地址: 广东省深圳市坪山新区翠景路35号
- 专利权人: 昂纳信息技术(深圳)有限公司
- 当前专利权人: 昂纳科技(深圳)集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 518000 广东省深圳市坪山新区翠景路35号
- 代理机构: 深圳市道臻知识产权代理有限公司
- 代理商 陈琳
- 主分类号: G01B11/24
- IPC分类号: G01B11/24
摘要:
本发明公开了一种面型测量系统和设备,面型测量系统包括按光路依次设置的准直扩束件、光束整形组件、分光件、样品台、第一反射件、探测器和第二反射件。其中,光束依次经过准直扩束件扩束准直,光束整形组件横向扩束后,经分光件分成样品光路和参考光路。样品光路经样品台后反射至第一反射件,第一反射件将光束垂直反射回样品台后,再经分光件反射至探测器中;参考光路射至第二反射件后,再经第二反射件反射经过分光件后反射至探测器。本发明通过折叠光路、二次折返、增设参考光路的方式提高面型测量系统的敏感性、稳定性、准确性,且采用直观的光斑测量方式、简易的组件降低测量成本,且拓宽了使用范围。