- 专利标题： 一种高光谱反射性高红外发射率粉体、制备方法及应用
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申请号： CN202211515651.5申请日： 2022-11-29
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公开(公告)号： CN115820024B公开(公告)日： 2023-12-22
- 发明人: 张杭 , 张家强 , 白晶莹 , 崔庆新 , 平托 , 郑琰 , 张东 , 丁为 , 张立功 , 杨鑫 , 李聪
- 申请人： 北京星驰恒动科技发展有限公司 , 北京卫星制造厂有限公司
- 申请人地址： 北京市海淀区中关村南三街18号
- 专利权人： 北京星驰恒动科技发展有限公司,北京卫星制造厂有限公司
- 当前专利权人： 北京星驰恒动科技发展有限公司,北京卫星制造厂有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市海淀区中关村南三街18号
- 代理机构： 北京华夏泰和知识产权代理有限公司
- 代理商 石鸣宇
- 主分类号： C09D5/33
- IPC分类号： C09D5/33
摘要：
本发明公开了一种高光谱反射性高红外发射率粉体、制备方法及应用，涉及航天器热控涂层填料技术领域。方法包括：按照摩尔比0.2‑0.4:1:1.2‑1.4：1‑1.5称取第一空心二氧化硅微球、第二空心二氧化硅微球、第三空心二氧化硅微球和稀土氯化盐；将所有空心二氧化硅微球与去离子水以及分散剂混合均匀，制备得到A组分；将稀土氯化盐与去离子水混合均匀，制备得到B组分；在水浴加热环境下，保持对A组分进行搅拌，将B组分滴加至A组分中，滴加完毕后，继续搅拌4‑8h，得到C组分；对C组分进行回流，向C组分中滴加氨水，调节Ph值至8.5‑9.5，继续对C组分回流2‑4h后，静置陈化制得D组分；取出D组分中
公开/授权文献
- CN115820024A 一种高光谱反射性高红外发射率粉体、制备方法及应用 公开/授权日：2023-03-21
IPC分类:
