- 专利标题: 一种动态模拟半导体生产系统废气处理的方法及装置
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申请号: CN202310152028.6申请日: 2023-02-22
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公开(公告)号: CN115826548B公开(公告)日: 2023-06-13
- 发明人: 程星华 , 杨光明 , 卢芳慧 , 曹东 , 李卫佳 , 缪怡君 , 赵晓妍 , 解敏
- 申请人: 中国电子工程设计院有限公司
- 申请人地址: 北京市海淀区西四环北路160号
- 专利权人: 中国电子工程设计院有限公司
- 当前专利权人: 中国电子工程设计院有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区西四环北路160号
- 代理机构: 北京市隆安律师事务所
- 代理商 杨云
- 主分类号: G05B19/418
- IPC分类号: G05B19/418
摘要:
本发明公开了一种动态模拟半导体生产系统废气处理的方法及装置,方法包括如下步骤:采集目标半导体生产工艺,以及半导体生产系统中的设备布局信息;确定生产目标半导体的目标机台组、目标机台和生产物流路径;获取第一生产节拍和第二生产节拍,结合目标半导体的生产物流路径,给出目标机台及目标机台组所产生的废气数据;获取目标机台组的废气处理信息和第三生产节拍,结合时间控制指令,给出针对半导体生产系统废气处理的动态模拟。将生产设备和腔体进程、生产节拍等参数囊括,实现了半导体生产系统废气处理动态模拟,为设备选型、管路设计、动能用量提供更精准的参考。
公开/授权文献
- CN115826548A 一种动态模拟半导体生产系统废气处理的方法及装置 公开/授权日:2023-03-21
IPC分类: