发明公开
- 专利标题: 一种光机系统设计方法及系统
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申请号: CN202210994637.1申请日: 2022-08-18
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公开(公告)号: CN115828653A公开(公告)日: 2023-03-21
- 发明人: 孙冬明 , 冯位欣
- 申请人: 中国电子科技集团公司第十一研究所
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路4号
- 专利权人: 中国电子科技集团公司第十一研究所
- 当前专利权人: 中国电子科技集团公司第十一研究所
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路4号
- 代理机构: 工业和信息化部电子专利中心
- 代理商 杨源鑫
- 主分类号: G06F30/23
- IPC分类号: G06F30/23 ; G06F119/14
摘要:
本发明公开了一种光机系统设计方法及系统,光机系统设计方法包括:根据光机系统的设计指标,构建光机系统数字模型;将光机系统数字模型导入有限元分析模型,并在有限元分析模型中对光机系统数字模型进行边界条件设置,运行有限元分析模型,以获得反映光机系统中待分析反射镜面变化情况的结果文件;将结果文件输入光学分析软件,并设置入射波长,运行光学分析软件,以获得反映待分析反射镜面光轴变化情况的RMS值和PV云图;根据RMS值和PV云图,调整设计指标,以根据调整后的设计指标,设计光机系统。本发明可以缩短光机系统设计周期和设计成本。