Invention Grant
- Patent Title: 一种耐磨抗冲击的UV光固化保护膜及其制备工艺
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Application No.: CN202310051236.7Application Date: 2023-02-02
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Publication No.: CN115873522BPublication Date: 2023-08-01
- Inventor: 魏平远 , 罗文峰
- Applicant: 上海兰庆新材料技术股份有限公司
- Applicant Address: 上海市松江区新桥镇新格路555号1幢
- Assignee: 上海兰庆新材料技术股份有限公司
- Current Assignee: 上海兰庆新材料技术股份有限公司
- Current Assignee Address: 上海市松江区新桥镇新格路555号1幢
- Agency: 上海邦德专利代理事务所
- Agent 杨益
- Main IPC: C09J7/25
- IPC: C09J7/25 ; C09J7/30 ; C09J151/08 ; C09J11/04
Abstract:
本发明涉及高分子技术领域,具体为一种耐磨抗冲击的UV光固化保护膜及其制备工艺;本发明制备了具有硅氧键的支化改性聚氨酯丙烯酸酯,利用硅氧键的高键能降低水汽对保护膜的侵蚀,且利用硅氧烷柔性链段,提升最终制备UV光固化保护膜的抗冲击性能,同时本申请还利用制备的支化改性聚氨酯丙烯酸酯的球形结构,降低反应黏度,从而提升纳米二氧化硅的分散性,提升了UV光固化保护膜耐磨性能从而最终使得本发明制备的UV光固化保护膜具有出色的抗冲击性与耐磨性。
Public/Granted literature
- CN115873522A 一种耐磨抗冲击的UV光固化保护膜及其制备工艺 Public/Granted day:2023-03-31
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