一种耐磨抗冲击的UV光固化保护膜及其制备工艺
Abstract:
本发明涉及高分子技术领域,具体为一种耐磨抗冲击的UV光固化保护膜及其制备工艺;本发明制备了具有硅氧键的支化改性聚氨酯丙烯酸酯,利用硅氧键的高键能降低水汽对保护膜的侵蚀,且利用硅氧烷柔性链段,提升最终制备UV光固化保护膜的抗冲击性能,同时本申请还利用制备的支化改性聚氨酯丙烯酸酯的球形结构,降低反应黏度,从而提升纳米二氧化硅的分散性,提升了UV光固化保护膜耐磨性能从而最终使得本发明制备的UV光固化保护膜具有出色的抗冲击性与耐磨性。
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