发明公开
- 专利标题： 基于金属铝基介孔氧化铝制备的荧光发射层及其制备方法和应用
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申请号： CN202211240768.7申请日： 2022-10-11
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公开(公告)号： CN115895657A公开(公告)日： 2023-04-04
- 发明人: 王乐 , 解荣军 , 周天亮 , 张宏 , 邾强强
- 申请人： 中国计量大学 , 厦门大学
- 申请人地址： 浙江省杭州市下沙高教园区学源街258号;
- 专利权人： 中国计量大学,厦门大学
- 当前专利权人： 中国计量大学,厦门大学
- 当前专利权人地址： 浙江省杭州市下沙高教园区学源街258号;
- 代理机构： 杭州求是专利事务所有限公司
- 代理商 陈升华
- 主分类号： C09K11/78
- IPC分类号： C09K11/78 ; C09K11/02 ; H01S5/00
摘要：
本发明提供了一种基于金属铝基介孔氧化铝制备的荧光发射层、荧光发射层的制备方法和应用。该荧光发射层的化学通式为Y2O3·aAl2O3·bCeO2，其中，3≤a≤6，0.01
公开/授权文献
- CN115895657B 基于金属铝基介孔氧化铝制备的荧光发射层及其制备方法和应用 公开/授权日：2024-06-04