Invention Grant
- Patent Title: 一种应用于高低温传函仪的红外中继系统
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Application No.: CN202211543648.4Application Date: 2022-12-02
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Publication No.: CN115931308BPublication Date: 2024-06-25
- Inventor: 柴炎 , 李彪 , 吴耀 , 李勇 , 朱广亮 , 张伟
- Applicant: 湖北久之洋红外系统股份有限公司
- Applicant Address: 湖北省武汉市江夏区庙山开发区明泽街9号
- Assignee: 湖北久之洋红外系统股份有限公司
- Current Assignee: 湖北久之洋红外系统股份有限公司
- Current Assignee Address: 湖北省武汉市江夏区庙山开发区明泽街9号
- Agency: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司
- Agent 许美红; 张宇
- Main IPC: G01M11/02
- IPC: G01M11/02
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Abstract:
本发明公开了一种应用于高低温传函仪的红外中继系统,物面与像面分别对应被测镜头焦面与点源探测器靶面,实现两者共轭,采用二次成像的结构形式,将被测镜头的焦面共轭成像至温箱外中间像面,刀口/狭缝放置于中间像面位置,实现刀口/狭缝温箱外扫描,并再共轭至点源探测器靶面,实现信号传递,便于信号MTF解算,被测镜头焦面经过温箱保护窗口和前组成像至刀口/狭缝处,再经过后组成像系统共轭成像至点源探测器靶面。本发明中继系统放大倍率为1×,物方数值孔径为0.25,工作波长3μm~5μm,刀口/狭缝处中间像点和像面处的传函在100lp/mm处均接近衍射极限,达到0.1以上。
Public/Granted literature
- CN115931308A 一种应用于高低温传函仪的红外中继系统 Public/Granted day:2023-04-07
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