Invention Publication
- Patent Title: 基于放射源空间性质的层析γ扫描体素效率刻度方法
-
Application No.: CN202211416647.3Application Date: 2022-11-13
-
Publication No.: CN115932936APublication Date: 2023-04-07
- Inventor: 石睿 , 王昌铭 , 庹先国 , 郑洪龙 , 杨剑波
- Applicant: 四川轻化工大学
- Applicant Address: 四川省自贡市自流井区汇兴路519号
- Assignee: 四川轻化工大学
- Current Assignee: 四川轻化工大学
- Current Assignee Address: 四川省自贡市自流井区汇兴路519号
- Agency: 成都天炜知识产权代理事务所
- Agent 向玉芳
- Main IPC: G01T1/36
- IPC: G01T1/36

Abstract:
本发明公开了一种能够减少工作量,能够提高工作效率,效率刻度的通用性好的基于放射源空间性质的层析γ扫描体素效率刻度方法。该基于放射源空间性质的层析γ扫描体素效率刻度方法包括步骤:S1、使用蒙特卡洛方法相关软件建立TGS系统1:1仿真模型;S2、确定空间效率测量的放射源放置位置;S3、空间效率计算;S4、空间效率修正系数计算;S5、探测效率因子计算;S6、探测效率计算。采用该基于放射源空间性质的层析γ扫描体素效率刻度方法所有能量γ射线共用一套空间效率ε,能够减小工作量;提升刻度效率同时保障数据可信度;具有良好的通用性和可迁移性。
Information query