发明授权
- 专利标题: 氮化物半导体器件及其制造方法
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申请号: CN202211514252.7申请日: 2022-11-29
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公开(公告)号: CN115939204B公开(公告)日: 2024-01-02
- 发明人: 何清源 , 郝荣晖
- 申请人: 英诺赛科(苏州)半导体有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市吴江区汾湖高新开发区新黎路98号
- 专利权人: 英诺赛科(苏州)半导体有限公司
- 当前专利权人: 英诺赛科(苏州)半导体有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市吴江区汾湖高新开发区新黎路98号
- 代理机构: 北京路浩知识产权代理有限公司
- 代理商 商秀玲
- 主分类号: H01L29/778
- IPC分类号: H01L29/778 ; H01L21/335
摘要:
一种氮化物半导体器件,其特征在于,包括氮化物鳍结构(fin structure)、氮化物半导体层、掺杂III‑V半导体层以及栅电极。氮化物鳍结构包括多个沿着第一方向配置的鳍片,且鳍片各自沿着第二方向延伸,其中第一方向与第二方向相异,氮化物鳍结构包括第一氮化物化合物。氮化物半导体层覆盖鳍片,并包括第二氮化物化合物,其中第二氮化物化合物的带隙大于第一氮化物化合物的带隙。掺杂III‑V半导体层,设置在氮化物鳍结构上,并至少具有第一部分以及第二部分,且鳍片位在第一部分与第二部分之间。栅电极设置在氮化物鳍结构上。
公开/授权文献
- CN115939204A 氮化物半导体器件及其制造方法 公开/授权日:2023-04-07
IPC分类: