发明公开
- 专利标题: 一种用于制备小损耗超高压交流瓷介电容器的介质材料及其制备方法
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申请号: CN202211722266.8申请日: 2022-12-30
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公开(公告)号: CN115959904A公开(公告)日: 2023-04-14
- 发明人: 张艳茹 , 袁峰 , 张慧 , 高艳 , 刘成
- 申请人: 北京七星飞行电子有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路4号北京七星飞行电子有限公司
- 专利权人: 北京七星飞行电子有限公司
- 当前专利权人: 北京七星飞行电子有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路4号北京七星飞行电子有限公司
- 代理机构: 北京易捷胜知识产权代理有限公司
- 代理商 蔡晓敏
- 主分类号: C04B35/49
- IPC分类号: C04B35/49 ; H01G4/12 ; C04B35/622 ; C04B35/626
摘要:
本发明涉及一种用于制备小损耗超高压交流瓷介电容器的介质材料及其制备方法。该介质材料由原料包括BaTiO3、SrTiO3、CaTiO3、Bi2O3·2TiO2、SrBi2Nb2O9、BiNaTi2O6、Nb2O5、ZrO2、ZnO、Bi2O3和MnCO3制备。本发明提供的材料的交流绝缘强度>7kv/mm,介电常数不低于1800,介电损耗<15×10‑4、体积电阻率>1012Ω·cm,这些电性能的提高为生产优异的超高压交流瓷介电容器奠定了良好的基础,能够满足电力系统、脉冲功率、航空航天、激光武器等对电容器的要求。
公开/授权文献
- CN115959904B 一种用于制备小损耗超高压交流瓷介电容器的介质材料及其制备方法 公开/授权日:2023-10-13