发明公开
- 专利标题: 一种利用卤键作用提高一氧化碳吸收分离容量的方法
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申请号: CN202211630040.5申请日: 2022-12-19
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公开(公告)号: CN115990393A公开(公告)日: 2023-04-21
- 发明人: 崔国凯 , 任成瑜 , 卢晗锋 , 周瑛 , 张瑞娜 , 刘华彦
- 申请人: 浙江工业大学
- 申请人地址: 浙江省杭州市拱墅区朝晖六区潮王路18号
- 专利权人: 浙江工业大学
- 当前专利权人: 浙江工业大学
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市拱墅区朝晖六区潮王路18号
- 代理机构: 杭州浙科专利事务所
- 代理商 周红芳
- 主分类号: B01D53/14
- IPC分类号: B01D53/14
摘要:
本发明公开了一种利用卤键作用提高一氧化碳吸收分离容量的方法。它以含有卤素结构的阳离子、亚铜结构的阴离子、醇类化合物组成的离子液体复合体系为吸收剂,用于吸收一氧化碳,在吸收过程中,吸收气体压力为10kPa~500kPa,吸收温度为20℃~80℃,吸收时间为1~5h;吸收饱和一氧化碳的离子液体的复合体系解吸过程,直接对吸收罐中吸收后的复合吸收剂体系进行抽真空,解吸温度为80~100℃,解吸时间为0.5~1h。本发明通过离子液体复合体系的设计,通过调控阴阳离子之间的相互作用,利用卤键作用调节亚铜位点与一氧化碳反应的作用,明显提高了一氧化碳吸收分离容量,常压下吸收量可达0.198mol/mol。