- 专利标题： 量子点墨水、量子点薄膜及其制备方法、显示基板
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申请号： CN202180002236.7申请日： 2021-08-20
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公开(公告)号： CN115996994B公开(公告)日： 2024-04-12
- 发明人: 王铁石
- 申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方技术开发有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方技术开发有限公司
- 当前专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方技术开发有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构： 北京润泽恒知识产权代理有限公司
- 代理商 冀晓恺
- 国际申请： PCT/CN2021/113902 2021.08.20
- 国际公布： WO2023/019593 ZH 2023.02.23
- 进入国家日期： 2021-08-23
- 主分类号： C09D11/30
- IPC分类号： C09D11/30
摘要：
本申请提供了一种量子点墨水、量子点薄膜及其制备方法、显示基板，涉及显示技术领域，量子点墨水，包括：第一墨水，所述第一墨水至少包括量子点本体以及配位在所述量子点本体表面的配体，所述配体包括R1基团；第二墨水，所述第二墨水至少包括反应性化合物，且所述反应性化合物被配置为能够与R1基团相互作用，并使得量子点本体沉降成膜。该量子点墨水制备的量子点薄膜具有较好的成膜均匀性，从而提高由量子点薄膜制备的显示产品的显示效果。
公开/授权文献
- CN115996994A 量子点墨水、量子点薄膜及其制备方法、显示基板 公开/授权日：2023-04-21
IPC分类:
