发明公开
- 专利标题： 菲涅尔透镜及其制备方法、光学模组及光学成像设备
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申请号： CN202310132665.7申请日： 2023-02-17
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公开(公告)号： CN116106995A公开(公告)日： 2023-05-12
- 发明人: 董瑞君 , 武玉龙 , 张浩 , 陈丽莉 , 白家荣 , 黄海涛 , 王晨如 , 韩娜 , 苗傲帝 , 王秋里 , 郝晓强
- 申请人： 北京京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址： 北京市大兴区北京经济技术开发区经海一路118号;
- 专利权人： 北京京东方显示技术有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人： 北京京东方显示技术有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市大兴区北京经济技术开发区经海一路118号;
- 代理机构： 北京众达德权知识产权代理有限公司
- 代理商 李娇
- 主分类号： G02B3/08
- IPC分类号： G02B3/08 ; G02B27/01
摘要：
本公开提供了一种菲涅尔透镜及其制备方法、光学模组及光学成像设备。该菲涅尔透镜包括：相对设置的第一表面和第二表面，至少第一表面设置为菲涅尔面，菲涅尔面具有多个锯齿状结构，锯齿状结构包括有效面和无效面，有效面相对于无效面远离菲涅尔透镜的中心。其中，锯齿状结构的无效面倾角与入射光角度对应设置。
