发明公开
CN116140318A 清洗装置
审中-实审
- 专利标题: 清洗装置
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申请号: CN202310066191.0申请日: 2023-01-18
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公开(公告)号: CN116140318A公开(公告)日: 2023-05-23
- 发明人: 李青 , 李赫然 , 郭静胜 , 胡恒广 , 张占永 , 曹海勇 , 胡鹏
- 申请人: 河北光兴半导体技术有限公司 , 东旭科技集团有限公司
- 申请人地址: 河北省石家庄市高新区中山东路931号;
- 专利权人: 河北光兴半导体技术有限公司,东旭科技集团有限公司
- 当前专利权人: 河北光兴半导体技术有限公司,东旭科技集团有限公司
- 当前专利权人地址: 河北省石家庄市高新区中山东路931号;
- 代理机构: 北京鼎佳达知识产权代理事务所
- 代理商 于海峰; 刘铁生
- 主分类号: B08B13/00
- IPC分类号: B08B13/00 ; B08B3/04
摘要:
本公开提供一种清洗装置,涉及清洗装置技术领域。该清洗装置包括:底座;旋转驱动组件,其包括:驱动电机和旋转轴,驱动电机设置于底座的顶面上,旋转轴沿纵向延伸且其底端连接于驱动电机的输出端;多个清洗槽,设置于底座的顶面,且以旋转轴为中心在驱动电机的外周环绕一圈;和连接臂及抓取机构,连接臂的一端连接于旋转轴的顶端,抓取部设置于连接臂的另一端且位于朝向底座的一侧,用于抓取或脱离容置件顶侧的取放部,容置件的内部用于装载待清洗工件;其中,旋转轴可转动至抓取机构与任意一个清洗槽纵向位置对应的位置,旋转轴或抓取机构在纵向上的高度可调。