- 专利标题: 铬蚀刻液、铬蚀刻液的制备方法及铬蚀刻液的回收方法
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申请号: CN202310028566.4申请日: 2023-01-09
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公开(公告)号: CN116162935B公开(公告)日: 2024-08-20
- 发明人: 童晨 , 吴海燕 , 陈桂红 , 孙元 , 韩成强
- 申请人: 昆山晶科微电子材料有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市昆山市千灯镇致威路259号
- 专利权人: 昆山晶科微电子材料有限公司
- 当前专利权人: 昆山晶科微电子材料有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市昆山市千灯镇致威路259号
- 代理机构: 北京维正专利代理有限公司
- 代理商 施青青
- 主分类号: C23F1/26
- IPC分类号: C23F1/26 ; C23F1/46 ; C23F3/06 ; C02F9/00 ; C01F17/235 ; C01G37/00 ; C02F1/66 ; C02F1/72 ; C02F1/36 ; C02F1/00 ; C02F1/04 ; C02F1/70 ; C02F103/16
摘要:
本申请公开铬蚀刻液、铬蚀刻液的制备方法及铬蚀刻液的回收方法,涉及蚀刻液领域。所述铬蚀刻液按重量份包括硝酸铈铵10‑45份、非氧化性酸2‑8份、过氧化氢3‑12份、稳定剂1‑3份、蚀刻抛光剂0.5‑1.5份、消泡剂0.2‑0.7份、去离子水50‑90份。所述铬蚀刻液的制备方法包括:将硝酸铈铵加入去离子水中充分溶解混匀,加入非氧化性酸、过氧化氢以及稳定剂,继续混合均匀,得到预混物A;将蚀刻抛光剂、消泡剂加入去离子水中,充分混合均匀,得到预混物B;将预混物A加入到预混物B中,混合均匀后,使用滤网进行过滤,即得到本发明提供的铬蚀刻液。本申请能够有效提高蚀刻反应速率,蚀刻后衬底表面平整光亮,提升了蚀刻质量,并且能够实现铬蚀刻液的回收再利用。
公开/授权文献
- CN116162935A 铬蚀刻液、铬蚀刻液的制备方法及铬蚀刻液的回收方法 公开/授权日:2023-05-26
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