发明授权
- 专利标题: 半导体器件及其制备方法
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申请号: CN202310492394.6申请日: 2023-05-05
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公开(公告)号: CN116209257B公开(公告)日: 2023-07-21
- 发明人: 罗荣峰 , 熊内隆宏
- 申请人: 长鑫存储技术有限公司
- 申请人地址: 安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号
- 专利权人: 长鑫存储技术有限公司
- 当前专利权人: 长鑫存储技术有限公司
- 当前专利权人地址: 安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号
- 代理机构: 北京派特恩知识产权代理有限公司
- 代理商 高天华; 徐川
- 主分类号: H10B12/00
- IPC分类号: H10B12/00
摘要:
本公开涉及半导体技术领域,提供了一种半导体器件及其制备方法,该半导体器件包括:衬底,包括阵列区和外围区;阵列区具有第一晶体管,外围区具有第二晶体管;电容器,位于阵列区的衬底上;电容器的下电极与第一晶体管连接;第一接触柱,位于电容器上;第一接触柱与电容器的上电极连接;接触结构,位于外围区的衬底上,包括:依次堆叠的第二接触柱和第三接触柱;第二接触柱与第二晶体管连接,第三接触柱与第二接触柱接触;沿垂直于衬底平面所在的方向,第二接触柱的尺寸和电容器的尺寸基本相同。这样改善外围区接触结构的均匀性以及多个接触结构之间的一致性。
公开/授权文献
- CN116209257A 半导体器件及其制备方法 公开/授权日:2023-06-02