发明公开
- 专利标题: 一种GaN基激光二极管及其制作方法
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申请号: CN202310116317.0申请日: 2023-02-15
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公开(公告)号: CN116316068A公开(公告)日: 2023-06-23
- 发明人: 阚宏柱 , 李水清 , 王星河 , 张江勇 , 马斯特 , 徐浩翔 , 陆恩 , 周进泽 , 牧立一 , 韩霖
- 申请人: 安徽格恩半导体有限公司
- 申请人地址: 安徽省六安市金安区巢湖路288号
- 专利权人: 安徽格恩半导体有限公司
- 当前专利权人: 安徽格恩半导体有限公司
- 当前专利权人地址: 安徽省六安市金安区巢湖路288号
- 代理机构: 北京文慧专利代理事务所
- 代理商 戴丽伟
- 主分类号: H01S5/22
- IPC分类号: H01S5/22 ; H01S5/20
摘要:
本发明提出了一种GaN基激光二极管及其制作方法,所述GaN基激光二极管包括自上至下依次设置的P‑GaN层、P‑Cladding层、P‑波导层、量子阱、N‑波导层、N‑Cladding层和N‑GaN层,所述P‑GaN层位于所述P‑Cladding层中间部位并形成脊状结构,且所述脊状结构的宽度小于所述P‑Cladding层的宽度,所述P‑Cladding层上位于所述脊状结构周边区域设置有绝缘层,所述脊状结构与所述绝缘层的接触面开设有开口朝上的孔洞,所述脊状结构和孔洞上设置有导电层,所述P电极设置在所述导电层上,所述N电极设置在所述N‑GaN层上。本发明所提出的GaN基激光二极管能够形成更高的光限制效果,以满足更高的使用需求。